羅仕洲

工作經歷：
2018.07-至今        磐允電子科技（上海）有限公司 總經理?
2018.01-2018.07     中芯國際集成電路制造（紹興）有限公司 紹興新廠籌建工程總監
2014.10-2018.01     中芯國際集成電路制造（上海）有限公司 中段晶圓一廠總監
2013.10-2014.10     空氣產品公司全球市場及應用總監
2012.10-2013.10     中芯國際S1 ETCH/Cu WET 部門經理
2006.01-2012.10     中芯國際S1 WET 部門經理
2003.07-2005.12     中芯國際WET/IMP/RTP 工藝課經理 
1997.08-2003.06     分別在臺灣臺積電（TSMC）、上海中芯國際（SMIC）等公司擔任資深及主任工程師

論文、專利
發表論文：
1. Victor Luo (羅仕洲), Xing-Tao Xue, Kuan-Chieh Yu, Jin Meng, Hong-Liang Lu, David Wei Zhang. Mehod to Improve the Process Effectiency for Copper Pillar Electroplating”， J. Electrochem. Soc.,2016, 163(3): 39-42.
2. Victor Luo (羅仕洲), Jing-Xiu Ding, Xing-Tao Xue, Rui-Peng Zhang, Xian-Ming Zhang, Hong-Liang Lu, David Wei Zhang. Effective Approaches to Improve Au Etching Process Performance ” CSTIC 2016 China Semiconductor Technology International Conference, 2016, Shanghai, China,Page:1-9.
3. Victor Luo (羅仕洲), Jason Chang, Kevin Shi and Justin Ni. Effect of De-ionized wafer Rinse in AlCu line post etch asher residue removal process using fluoride containing stripper ” ECS Transcation 2012 44(1):319-323
4. Victor Luo (羅仕洲), Jason Chang, Kevin Shi, Libbert Peng, Liubing, Jason Zhang and David Wei Zhang. BEOL Solvent Clean Process Study using Fluoride Containing and hydroxylamine Based Stripper ” ECS Transcation 2012 44(1):313-317.
5. V Luo (羅仕洲), J Chang, K Shi, B Liu, L Peng. Prevention of AlCu line Galvanic Corrosion after Fluoride containing Stripper cleaning : a case study (CSTIC China, 2011 )
6. V Luo (羅仕洲), J Ding, W Zhan, L Peng, A Wang. Method to Reduce Crystal Defects in AlCu Bond Pad (CSTIC China, 2010 ) 
7. F Xiao, H Wang, SZ Luo (羅仕洲)  Hot Phosphoric Acid Etch Rate to Si_3N_4 in Wet Etching. Semiconductor Technology , 2007 , 32 (10) :847-850 
8. HJ Keh, SC Luo (羅仕洲)  Particle Interactions in Diffusiophoresis: Axisymmetric Motion of Multiple Spheres in Electrolyte Gradients,  Langmuir 12 , 657-667 (1996) .
9. Huan J. Keh , Shih C Luo (羅仕洲). Particle Interactions in Diffusiophoresis in Nonelectrolyte gradients, Phys. Fluids 7 , 2122-2131 (1995) .

專利：
1. 一種半導體器件的選擇性刻蝕方法及BSI圖像傳感器制作方法 - 201310312586.0
王沖;吳秉寰;羅仕洲;奚民偉;常延武;史爽
2. 烘干機 - 201120300162.9錢文明;羅仕洲;肖方
3. 用于減少晶片表面缺陷的濕式蝕刻方法及其裝置 - 200710172511.1;101465273B
徐寬;湯舍予;林德成;羅仕洲
4. 在氮化硅層上形成氮氧化硅層的方法 - 02101551.1;1202562傅煥松;謝永明;羅仕洲
5. 用于減少晶片表面缺陷的濕式蝕刻方法及其裝置 - 200710172511.1徐寬;湯舍予;林德成;羅仕洲
6. 晶片干燥方法及裝置 - 200610147946.6丁士成;羅仕洲;詹揚;李強
7. 電容器的制造方法 - 03142136.9羅仕洲;謝永明;傅煥松

學術活動：
1.浙江大學半導體校友會-求是緣協會理事。
2.中國半導體制造微信群組平臺-歡芯鼓伍俱樂部創始人。
3.擔任《半導體國際》晶圓清洗技術專家委員會成員。
4.犧牲氧化層的濕法蝕刻對柵氧化層影響的研究 2011復旦大學碩士論文指導老師。
5.晶圓清洗工藝中水痕問題的研究 2007上海交通大學碩士學位論文指導老師。